Difusión e Implantación Iónica en la Fabricación de Semiconductores
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Difusión e Implantación Iónica
Introducción
En el tema anterior, vimos cómo contaminar una oblea. En este, veremos cómo contaminarla localmente. ¿Cómo contaminamos localmente el semiconductor? Mediante dos procesos: la difusión y la implantación iónica.
El dopado selectivo de la oblea se realiza por difusión o implantación iónica.
Sabemos cómo contaminar el semiconductor mientras crece, en crecimiento en volumen. Ahora veremos cómo contaminarlo por zonas. Para la contaminación de los dispositivos es necesario contaminarlos localmente.
La diferencia fundamental de estos dos procesos es la forma en la que se introducen las impurezas. Con las técnicas adecuadas se puede dopar el sustrato selectivamente y producir regiones tipo P o... Continuar leyendo "Difusión e Implantación Iónica en la Fabricación de Semiconductores" »
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